Im Produktionsbereich ist man mit den Anforderungen vertraut: Schon eine Schwankung der Backtemperatur um 0,1 °C reicht aus, um das Profil desPhotoresists zu zerstören. Deshalb haben wir diese Wafer-Trockner entwickelt – für die Momente, in denen thermische Parameter, Wiederholbarkeit und Kontrolle der Partikelzahl entscheidend für die Qualität sind.
Was technisch wichtig ist:
Wir gewährleisten eine Temperaturgleichmäßigkeit von ±0,1 °C auf Wafern mit einer Größe von 150 mm und 200 mm. NIR-Technologie sowie optimierte Luftströmungen sorgen dafür, dass es keine Hotspots gibt. Die Quarz- und Halogenmodul sind so kalibriert, dass sie innerhalb der optimalen Temperaturen für das Weich- und Hartbacken des Photoresists bleiben. Zudem garantieren die mit Kohlenstofffasern verstärkten Heizer eine schnelle Erhitzung bei geringer Trägheit.
Die Kompatibilität mit Reinräumen ist kein zusätzlicher Vorteil – man kann Konfigurationen der Klasse 1–100 wählen. Dadurch entstehen keine Partikel, und die Abgasfilterung verhindert Kontaminationen der Wafer. Der Steuerkreis ist so eingestellt, dass eine hohe Wiederholbarkeit erreicht wird – somit entsprechen alle Chargen einander.
Warum das funktioniert:
In der Lithografie sorgt eine konstante Backtemperatur dafür, dass die kritischen Abmessungen eingehalten werden. Dadurch werden Abweichungen in der Linienbreite minimiert und Rückarbeiten reduziert. Bei der Reinigung und Trocknung wird das Wasser ohne Spuren entfernt – dadurch sinkt die Fehlerrate.
Für das Verpacken ermöglicht dieselbe Plattform eine stabile Behandlung des Encapsulants und des Underfills. Dadurch werden kürzere Zykluszeiten und weniger Energieverbrauch erreicht. Das Ergebnis sind vorhersehbare Produktionsraten, weniger ungenutzte Wafer sowie weniger ungeplante Stillstände.
Worauf man bei Installation und Wartung achten muss:
Die Größe der Abgasrohre muss zum Druckunterschied im Reinraum passen. Wenn die Rohre nicht richtig angeordnet sind, entstehen Turbulenzen, die die Temperaturgleichmäßigkeit beeinträchtigen. Die Anlage benötigt außerdem einen eigenen Stromkreis, damit sie während der schnellen Erhitzungsprozesse stabil bleibt.
Es ist ratsam, die Anlage alle 5.000 Betriebsstunden zu kalibrieren, um eine genaue Temperaturregelung zu gewährleisten. Wenn alles richtig eingerichtet ist, kann die Anlage 24/7 betrieben werden – und liefert dabei immer wieder gleichbleibende Ergebnisse bei der Trocknung der Wafer, beim Backen des Photoresists sowie bei der Verpackung.