Out on the fab floor، یک ویفر 300mm قرار دارد که منتظر تنظیم دقیق پروفایل دماییاش است. کوچکترین انحراف در پروفایل نرم پخت یا سخت پخت، باعث تغییر عرض ناحیهی پوشش فوتورزیست میشود. قبل از آنکه اتاقک اچ حتی ویفر را ببیند، بازدهی تولید کاهش پیدا میکند. ما لامپهای فرآیند حرارتی سریع خود را به گونهای ساختهایم که این انحراف دقیقاً در نقطه شروع آن متوقف شود.
What matters under the hood
لامپها از منابع هالوژن کوتاهموج در یک محفظه کوارتزی استفاده میکنند، بنابراین انرژی به سرعت، جهتدار و تحت کنترل طیفی دقیق است. در سراسر ناحیه فرآیند، یکنواختی دمایی در سطح ویفر در محدوده ±0.1°C حفظ میشود و تکرارپذیری دما در هر چرخه ثابت باقی میماند. سیستم مطابق کلاس اتاق تمیز 1–100 طراحی شده است و انتخاب قطعات همراه با آببندها به گونهای مهندسی شده که تولید ذرات به صفر برسد. توان تحویل داده شده مطابق بودجه حرارتی گرههای پیشرفته کالیبره شده است، بنابراین روند افزایش دما، نگهداری و خنکسازی دقیقاً طبق دستورالعمل دستور پخت انجام میشود.
Why it fits where we run it
در مسیر لیتوگرافی، این لامپ پروفایلهای نرم پخت و سخت پخت را که کنترل ابعاد بحرانی را تعیین میکنند، تثبیت میکند. در ادغام مراحل شستشو و خشککردن، زمان چرخه حرارتی را بدون وارد کردن تنش به لایهها کاهش میدهد—در نتیجه ظرفیت تولید افزایش و مصرف انرژی کاهش مییابد. این لامپ به صورت ۲۴/۷ کار میکند و هیچ زمان از کار افتادگی برنامهریزی نشدهای ندارد و بازههای نگهداری نیز قابل پیشبینی هستند. نتیجه این امر کاهش نوسانات، توزیعهای دقیقتر و یکنواختی بین ویفرها است که میتوان روی آن حساب کرد.
The practical details
لامپ فقط زمانی به مشخصات میرسد که اپتیکها و مسیرهای خنککننده اتاقک تمیز و همراستا باشند. آلودگی یا عدمترازبندی باعث اختلال در نقشه دمایی میشود. نصب شامل تطبیق رابط کانکتور و کلاس توان با ابزار میزبان است، و همچنین باید لامپ را با دستور پخت دقیق فرآیند تطبیق دهید. ما منحنیهای کالیبراسیون و آزمونهای پذیرش را فراهم میکنیم تا ادغام ساده بماند، اما تنظیمات روی سطح ابزار را با همان دقتی که برای هر شایستگی فرآیند قائلید، انجام دهید.