Di pabrik pengolahan wafer, Anda tahu betul aturannya. Perubahan suhu selama proses pembakaran photoresist sebesar 0,1°C saja sudah cukup untuk membuat profil photoresist menjadi tidak bisa digunakan lagi. Itulah mengapa kami menciptakan alat pengering wafer ini, agar kontrol suhu, tingkat repetibilitas, dan pengendalian partikel dapat mempengaruhi kualitas hasil produksi.
Yang penting secara teknis
Kami menjaga keseragaman suhu pada wafer hingga ±0,1°C, baik pada substrat berukuran 150 mm maupun 200 mm. Sistem NIR beserta aliran udara yang teroptimalkan membantu menghilangkan titik-titik panas tanpa menyebabkan masalah lain. Modul kuarsa dan halogen diatur sedemikian rupa sehingga suhu tetap berada dalam rentang yang tepat untuk proses pembakaran photoresist. Pemanas berbahan serat karbon memungkinkan peningkatan suhu secara cepat dengan inersia yang rendah.
Kompatibilitas dengan ruang bersih bukanlah hal yang bisa diabaikan. Anda dapat memilih konfigurasi kelas 1–100, dengan tingkat polusi nol dan sistem filtrasi yang efektif untuk mencegah kontaminasi pada wafer. Sistem kontrol dirancang untuk mencapai tingkat repetibilitas yang tinggi, sehingga setiap batch produksi akan memiliki kualitas yang serupa dengan batch sebelumnya.
Mengapa cara ini efektif
Dalam proses litografi, menjaga suhu pembakaran photoresist sesuai spesifikasi sangat penting, karena hal tersebut membantu mengontrol dimensi-dimensi kritis wafer, sehingga mengurangi kesalahan dalam proses produksi. Dalam proses pembersihan dan pengeringan, sistem ini dapat menghilangkan air dari permukaan wafer tanpa meninggalkan bekas, sehingga mengurangi kepadatan cacat pada wafer.
Untuk proses pengemasan, platform ini juga dapat digunakan untuk proses pengeringan bahan pengisi dan pelindung wafer, dengan hasil yang stabil. Hal ini memungkinkan waktu siklus yang lebih singkat dan penggunaan energi yang lebih rendah. Hasilnya adalah kapasitas produksi yang lebih tinggi, lebih sedikit wafer yang tidak layak digunakan, serta waktu henti yang lebih sedikit.
Hal-hal yang perlu diperhatikan saat pemasangan dan pemeliharaan
Pastikan ukuran saluran udara sesuai dengan perbedaan tekanan di ruang bersih. Jika saluran udara tidak sejajar, akan terjadi turbulensi yang merusak keseragaman suhu. Unit ini juga membutuhkan sumber daya listrik yang stabil agar dapat beroperasi dengan baik selama proses pemanasan berlangsung.
Lakukan kalibrasi setiap 5.000 jam penggunaan lampu, agar akurasi suhu tetap terjaga. Jika semuanya diatur dengan benar, platform ini dapat beroperasi 24/7, memberikan kinerja termal yang konsisten dalam proses pengeringan wafer, pembakaran photoresist, dan pengemasan.