Di lantai, kondisi fotoresist hanya akan tetap stabil selama siklus pemanasan terakhir berlangsung. Wafer-wafer tersebut diletakkan di atas kereta khusus, dan setiap perubahan suhu sekecil apa pun dapat menyebabkan kesalahan dimensi pada fotoresist. Hal ini tentu akan berdampak negatif pada kualitas produk akhir. Kami menciptakan pemanas khusus untuk ruang bersih semikonduktor agar ketidakpastian tersebut dapat dihilangkan.
Yang penting dalam desainnya
Kami menggunakan elemen inframerah gelombang pendek yang dibungkus dalam casing kuarsa—elemen ini memiliki respons yang cepat dan emisi gas yang rendah. Sistem ini mampu menjaga kestabilan suhu pada tingkat wafer hingga ±0,1°C, dengan tingkat repetibilitas setpoint lebih dari ±0,5°C. Pola pemanasan yang digunakan juga konsisten dari satu kali penggunaan ke penggunaan berikutnya, sehingga tidak ada pemborosan energi pada film-film sensitif.
Pemanas ini menggunakan bahan-bahan yang kompatibel dengan ruang bersih kelas 1–100. Aliran udara pun dirancang sedemikian rupa agar produksi partikel dapat dikurangi. Algoritma kontrolnya tetap stabil meski ada fluktuasi tegangan atau pintu ruang bersih dibuka.
Mengapa pemanas ini cocok digunakan dalam proses litografi
Dalam proses litografi, pemanas ini mampu menjaga fotoresist pada suhu yang tepat, tanpa terjadi overshoot atau undershoot. Dengan demikian, kontrol dimensi kritis menjadi lebih baik, jumlah produk yang perlu diperbaiki berkurang, dan waktu proses menjadi lebih dapat diprediksi.
Penggunaan energi dikendalikan melalui mode pemanasan yang tepat dan mode siaga. Keandalannya pun tinggi, sehingga proses dapat berjalan 24/7 tanpa gangguan. Semua proses juga didokumentasikan dengan baik, sehingga tidak perlu menebak-nebak apa yang akan terjadi.
Apa yang perlu dipersiapkan
Untuk pemasangan, diperlukan sumber daya listrik yang terpisah dan sistem penghantaran daya yang tepat, serta grounding yang memadai untuk mencegah pelepasan muatan listrik statis. Pemanas ini akan berfungsi secara optimal jika suhu di ruang bersih berada pada kisaran 20–25°C dan kelembapan relatif 35–55%. Jika suhu di luar rentang tersebut, tingkat kestabilan suhu akan menurun.
Pastikan juga bahwa jarak antara wafer dan pemanas cukup, agar aliran udara sesuai dengan tata letak fasilitas produksi.