Berhenti menunggu wafer anda panas terlebih dahulu
Jika anda pernah bekerja dalam proses pemprosesan semikonduktor yang kompleks, anda pasti tahu betapa menyakitkannya harus menunggu udara menjadi panas sebelum haba tersebut dapat menembusi wafer. Ini merupakan halangan besar dalam proses pengeluaran.
Tetapi ada cara yang lebih baik. Pemanas inframerah yang sesuai untuk digunakan dalam keadaan vakum membolehkan haba disalurkan secara langsung ke permukaan wafer, tanpa perlu bergantung pada udara untuk menghantar haba.
Mengapa kaedah konveksi memperlambat proses pengeluaran
Udara panas bergerak dengan perlahan. Ini menyebabkan kelewatan dalam proses pengeluaran. Selain itu, jika anda bertukar dari keadaan vakum ke keadaan bilik yang penuh dengan gas demi mendapatkan haba, ia akan menyebabkan pencemaran dan perubahan tekanan yang negatif.
Lampu inframerah pula berbeza. Ia berfungsi dengan baik dalam keadaan vakum yang tinggi. Kelebihannya ialah masa yang diperlukan untuk memanaskan wafer dapat dikurangkan daripada beberapa minit kepada beberapa saat sahaja. Ini sangat cepat. Dan ini akan mengubah cara kerja pengeluaran anda sepenuhnya.
Bagaimana kita membina pemanas jenis ini
Anda tidak boleh sekadar menggunakan pemanas biasa dalam keadaan vakum yang tinggi. Pelepasan gas merupakan masalah besar—sedikit sahaja kebocoran gas pun boleh merosakkan keseluruhan produk yang dihasilkan.
Itulah sebabnya kita menggunakan pembungkus dan penutup khas yang direka khusus untuk kegunaan dalam keadaan vakum. Yang terbaik ialah haba dapat disalurkan secara tepat ke kawasan tertentu pada wafer, tanpa merosakkan bahagian-bahagian lain. Ini juga membantu mengelakkan tekanan pada tepi silikon, sehingga mengurangkan risiko kerosakan pada produk.
Kekurangan penggunaan pemanas inframerah
Perlu diingat bahawa pemanas inframerah bukanlah penyelesaian ajaib. Kerana haba yang dihasilkan sangat kuat dan cepat, mudah untuk melebihi suhu yang diinginkan. Jika sistem kawalan suhu tidak berfungsi dengan baik, suhu wafer akan melebihi had yang ditetapkan.
Anda memerlukan alat pengukur suhu yang responsif untuk memantau suhu permukaan wafer secara masa nyata. Jangan abaikan sistem penyejukan yang digunakan. Jika sistem penyejukan tidak mencukupi, haba yang dihasilkan oleh lampu inframerah akan merosakkan penutup vakum tersebut.
Pada akhirnya, penggunaan pemanas inframerah dapat meningkatkan kelajuan proses pengeluaran. Anda tidak perlu lagi meluangkan masa untuk memanaskan mesin, sebaliknya boleh terus memproses wafer tersebut.