Op de productielijn kan men zich geen enkele fout veroorloven bij het verwerken van fotorezistenten. Een verschil van maar 1°C tijdens het bakproces kan leiden tot grote afwijkingen in de afmetingen van de componenten. Bovendien kan één enkele deeltje al tot grote problemen leidden. We hebben onze verwarmingssystemen zo ontworpen dat deze dit soort afwijkingen voorkomen.
Wat er echt belangrijk is De lampen maken gebruik van kortegolflange halogeen-elementen die zich bevinden in hoogzuivere kwartsomhullingen. Hierdoor is de respons snel en is de temperatuurregulatie nauwkeurig. Op het niveau van de wafer blijft de uniformiteit binnen ±0,1°C, en de herhaalbaarheid is constant. Het ontwerp zorgt er ook voor dat er geen deeltjes ontstaan, en het past in schone ruimtes van klasse 1 tot 100. De prestaties blijven stabiel gedurende meer dan 5.000 uur, met minder dan 5% daling in prestaties. Hierdoor kunnen de lampen 24/7 worden gebruikt.
Waarom ze geschikt zijn voor lithografie In lithografielijnen zorgen deze lampen ervoor dat de temperatuur precies wordt gereguleerd tijdens het bakproces van fotorezistenten. Dit zorgt voor minder afwijkingen in de dikte van de laag die wordt gevormd op de wafer. Een nauwkeurige temperatuurregulatie maakt het mogelijk om de bakcyclus te verkorten zonder dat de fotorezistent te veel wordt verhard. Hierdoor neemt de productiecapaciteit toe en wordt de energieverbruik verminderd. Er wordt meer product bereikt, minder producten moeten worden herwerkt, en de beschikbare tijd kan beter worden gepland. Het kwartsformat van de lampen past gemakkelijk in standaardinstallaties, waardoor de omstelling minimaal is.
Praktische details die goed moeten worden geregeld Bij de installatie moet de spanning, het type connector en de afmetingen van de lampen worden aangepast aan de behoeften van uw apparatuur. Controleer altijd of de temperatuuroverdracht overeenkomt met die van de fotorezistenten – dunne lagen kunnen namelijk anders reageren op temperaturen. De lampen mogen geen mechanische schokken krijgen, dus ze moeten stevig worden gemonteerd. Bij het eerste inschakelen kan er een kleine temperatuurstijging optreden; de bakprocedures moeten dit compenseren. Goede alignering zorgt er bovendien voor dat er geen hete plekken ontstaan, zodat de uniformiteit van ±0,1°C behouden blijft, zelfs bij duizenden wafers.