Sušení on Intense Infrared Heating Lamps

Ohřívač na sušení destiček senzorů MEMS

Mon, 27 Jul 2026 08:26:37 +0800

Lepší způsob sušení waferů typu MEMS
Pokud jste někdy pracovali na výrobě senzorů typu MEMS, víte, jaké to je. Snažit se vysušit wafty bez toho, aby zůstaly pozůstatky kapalin – nebo dokonce aby došlo ke zkreslení součástek kvůli tepelnému napětí – je opravdu náročný úkol.

Většina lidí spoléhá na běžné konvekční ohřívače, ale s tím je problém. Ty mají tendenci ohřívat vnitřní stěny komory. Je to plýtvání energií a navíc představuje bezpečnostní riziko pro ty, kteří musí do této komory nahlédnout.

Energetická auditoria pro sušení v továrně

Mon, 13 Jul 2026 14:25:24 +0800

Zastavte střepy: Udržte si výrobní linku čistou, když selže lampa

V provozu s vysokou zátěží není prasknutí lampy jen otravou – je to noční můra. Když praskne jeden křemenný obal, najednou na vaše desky padají skleněné střepy a prach. celá série je zničena. Nyní musíte celou linku vyčistit a strávit spoustu času. Je to chaos, se kterým nikdo nechce mít co do činění.

Proto stavíme naše infračervené lampy s ohledem na možné problémy. Zaměřujeme se na materiály a ochranné prvky, které udržují sklo na svém místě.

Velkoobchodní lampa na sušení destiček

Mon, 06 Jul 2026 07:36:25 +0800

Úvod

Tuto lampu na sušení čipů jsme vyvinuli jako praktický nástroj – takový nástroj, na který se můžete spolehnout, když vaše linky na balení a testování pracují na plné obrátky. Není to obyčejný topič, se kterým si hráváte. Jedná se o nástroj určený pro výrobní linky – je navržen tak, aby poskytoval konstantní, vysokou hladinu tepla, které rychle vysuší čipy s co nejmenšími přestávkami.

Technické podrobnosti

Podívejme se, co způsobuje její funkčnost. Lampa pracuje na 400 V a vy produkuje 2500 W tepla. To umožňuje rychlé odstranění rozpusťadel z povrchu čipů. Trubice má délku 300 mm – to je ideální velikost na to, aby pokryla standardní polici s čipy, aniž by zabírala více prostoru, než je potřeba. Díky této vhodné velikosti lze dosáhnout vyšší kapacity výroby na stejném prostoru.

Lampa na sušení katalyzátoru v palivové článku

Mon, 29 Jun 2026 06:31:12 +0800

V průběhu procesu zpracování fotorezistu prostě nemůžete riskovat výkyvy teploty. Jeden „horký bod“ může způsobit posun té katalyzátorové vrstvy. Jedna chladná oblast naopak způsobí problémy po vyvolávání obrazu. Proto je lampa na sušení katalyzátorů v palivových článcích navržena tak, aby mohla být použita v čistých prostorách – pro sušení destiček, litografické zpracování, zatvrzování v obalech a sušení po očištění – vše v jednom zařízení vhodném pro použití v čistých prostorách.

Co je důležité uvnitř lampy
Používáme elementy s krátkým časem odezvy a přesnou spektrální kontrolou, abychom dosáhli správné teploty potřebné k zatvrdnutí katalyzátorové směsi. Rozptyl teploty na úrovni destičky zůstává na úrovni ±0,1 °C v celé horké zóně, takže každá destička dostává stejnou teplotní podporu. Hlavice lampy je kompatibilní s normami třídy 1–100, nevznikají žádné částice z topného systému a optická cesta je uzavřená, aby se zabránilo kontaminaci. Přesnost dodávané energie je na úrovni ±0,5 % a opakovatelnost je zajištěna pomocí pyrometrie umístěné přímo na povrchu substrátu.

Sušicí lampa pro solární články

Sun, 07 Jun 2026 03:32:57 +0800

Na výrobní hale není potřeba mnoho k tomu, abyste ztratili hodně. Mírný vodní znak po čištění, pečicí profil, který není rovnoměrný—jeden problém a celý šarže solárních plátů může být ohrožená. Tradiční sušicí lampy mají tendenci se odchylovat, a tato odchylka vytváří tepelné gradienty. Výsledkem je zdeformovaný fotorezist a kontaminace částicemi, se kterou jste nepočítali. Cena se projeví ve formě odpadu, přepracování a kapacity, kterou nelze získat zpět.

Co je důležité pod kapotou
Solární sušicí lampu pro pláty jsme postavili kolem krátkovlnných infračervených (SWIR) halogenových emitérů v křemenné obálce. Energie je rychlá a směrová, se striktní spektrální kontrolou. Teplotní rovnoměrnost plátu v aktivní oblasti je udržována na ±0,1°C a opakovatelnost nastavení zůstává v rámci ±0,5°C změny mezi směnami. Systém pracuje v čistých prostorech třídy 1–100 s nulovou tvorbou částic, což je ověřeno in-situ monitoringem částic. Stabilita výkonu je specifikována na méně než 5% variace během 5 000+ hodin provozu, tudíž může běžet 24/7 s minimální potřebou přenastavení.