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		<title>Aushärten on Intense Infrared Heating Lamps</title>
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				<title>Reflektor für Wafer Härtungslampe</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-fire.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Reflektor für Wafer Härtungslampe&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf der Linie ist die Wiederholgenauigkeit des Fotolacks das Maß aller Dinge – es gibt keinen Spielraum. Ein paar Grad &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;Abweichung&lt;/a&gt; über dem Wafer und Sie drucken einen Fehler in der Linienbreite von 0,1 μm, der sich durch jede Lithographieschicht summiert. Wir haben unseren Reflektor für Wafer-Härtelampen entwickelt, um diese Variabilität zu beseitigen. Er formt das Infrarotlicht in ein stabiles, sub-millimeter großes thermisches Feld, sodass Ihr Soft-Bake- und Hard-Bake-Prozess konstant bleibt, Charge um Charge.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was technisch zählt&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Dieser Reflektor ist auf die NIR-Abgabe mit strenger Winkelkontrolle abgestimmt und kartiert die Intensität auf ±0,1°C über der Waferfläche. Die Geometrie ist auf Gleichmäßigkeit optimiert, nicht auf Spitzenfluss, da die Aushärtung des Fotolacks von einem konstanten thermischen Budget abhängt. Die Oberfläche ist für niedrige Partikelanzahl und stabile Reflexion optimiert, sodass die Partikelzahlen in den erforderlichen Klassen 1–100 Reinräumen bleiben. Die Wiederholgenauigkeit des Outputs hält über 5.000+ Stunden, mit weniger als 5% Intensitä&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;tsdrift&lt;/a&gt; selbst bei 24/7-Betrieb.&lt;/p&gt;</description>
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