PVD Lampe (physikalische Vaporabscheidung)

Mon, 22 Jun 2026 22:58:48 +0800

In den Produktionsräumen werden die Anforderungen an den PVD-Prozess immer strenger – jedes Quartal scheint es, als würden wir wieder einen „Winkel“ aus dem Prozess herausgeschnitten. Schon eine kleine Temperaturschwankung der Lampen reicht aus, um das Verhalten des Photolackes zu beeinflussen. Dadurch entstehen Unregelmäßigkeiten in der Dicke der Schichten sowie in der Breite der Linien. Wir haben diese PVD-Lampen so konstruiert, dass sie auch bei wiederholten Prozesszyklen eine konstante Temperatur garantieren.

Was wirklich wichtig ist: Diese Lampen nutzen kurzwelliges Infrarotlicht und sind in Quarzkästen untergebracht. Dadurch erfolgt eine schnelle Anheizung der Substrate, und die Kontrolle der Temperatur bleibt präzise. In der Befeuerungszone bleibt die Homogenität auf dem Waferniveau bei ±0,1°C – das reicht aus, um die Grenzwerte für den weichen und harten Befeuervorgang einzuhalten. Die Lampen sind für Reinräume der Klasse 1–100 geeignet; sie haben eine dichte Bauweise mit geringer Gasemission und erzeugen keine Partikel. Das thermische System ist für einen Dauerbetrieb von 7×24 Stunden ausgelegt. Laut Felddaten gab es über 5.000 Betriebsstunden hinweg keine unplanmäßigen Ausfälle, und die Abweichung der Leistung lag unter 5%.

PVD on Intense Infrared Heating Lamps

PVD Lampe (physikalische Vaporabscheidung)