Reflektor on Intense Infrared Heating Lamps

Aluminiumreflektor für Infrarotlampe

Mon, 27 Jul 2026 08:11:07 +0800

Hören Sie auf, Ihre Energie zu verschwenden: Ein Praktischer Leitfaden zu IR-Reflektoren
Wenn Sie schon einmal mit Halbleiterkomponenten gearbeitet haben, wissen Sie, dass unkontrollierte Hitze ein echtes Problem darstellt. Wenn man Hochleistungs-IR-Lampen ohne Plan verwendet, strahlt die Energie nicht nur auf die Wafer ab – sie prallt auch von den Innenwänden des Gehäuses ab. Dadurch wird die Maschine überhitzt, und die Personen, die in der Nähe stehen, sind in Gefahr. Zudem können die empfindlichen Komponenten beeinträchtigt werden, was wiederum zu Fehlern in der Präzision führt.

Infrarotlampe mit Goldreflektor

Sat, 25 Jul 2026 04:45:10 +0800

Wie man einen Klasse-100-Reinraum wirklich sauber hält
Wenn Sie einen Klasse-100-Reinraum betreiben, kennen Sie sicherlich das Problem der Partikelbildung. Schon ein kleiner Splitter von einem billigen Heizelement kann dazu führen, dass Ihre Siliziumwafer oder medizinischen Implantate unbrauchbar werden. Das ist frustrierend.

Deshalb verwenden wir keine herkömmlichen Widerstandsheizer, die Gas abgeben oder deren Beschichtung abplatzt. Stattdessen nutzen wir Infrarotlampen aus hochreinem Quarz sowie reflektierende Oberflächen aus Gold.

Warum Quarz?
Wir verwenden synthetischen, gefügten Quarz für die Außenhülle – schließlich ist er äußerst belastbar. Er kann extremen Temperaturschwankungen standhalten, ohne zu zerbrechen. Noch wichtiger ist: Er verfällt nicht in Staub, wenn es heiß wird.

Reflektor für Wafer Härtungslampe

Thu, 04 Jun 2026 03:14:53 +0800

Auf der Linie ist die Wiederholgenauigkeit des Fotolacks das Maß aller Dinge – es gibt keinen Spielraum. Ein paar Grad Abweichung über dem Wafer und Sie drucken einen Fehler in der Linienbreite von 0,1 μm, der sich durch jede Lithographieschicht summiert. Wir haben unseren Reflektor für Wafer-Härtelampen entwickelt, um diese Variabilität zu beseitigen. Er formt das Infrarotlicht in ein stabiles, sub-millimeter großes thermisches Feld, sodass Ihr Soft-Bake- und Hard-Bake-Prozess konstant bleibt, Charge um Charge.

Was technisch zählt
Dieser Reflektor ist auf die NIR-Abgabe mit strenger Winkelkontrolle abgestimmt und kartiert die Intensität auf ±0,1°C über der Waferfläche. Die Geometrie ist auf Gleichmäßigkeit optimiert, nicht auf Spitzenfluss, da die Aushärtung des Fotolacks von einem konstanten thermischen Budget abhängt. Die Oberfläche ist für niedrige Partikelanzahl und stabile Reflexion optimiert, sodass die Partikelzahlen in den erforderlichen Klassen 1–100 Reinräumen bleiben. Die Wiederholgenauigkeit des Outputs hält über 5.000+ Stunden, mit weniger als 5% Intensitätsdrift selbst bei 24/7-Betrieb.