Vakuumkompatibler Infrarotheizer

Mon, 20 Jul 2026 11:04:59 +0800

Hören Sie auf, darauf zu warten, dass die Wafer richtig warm werden.
Wer bereits Erfahrung im Tiefbearbeiten von Halbleitern hat, kennt die Frustration, die durch die Konvektion durch Luft entsteht. Der Prozess ist äußerst langsam – man muss einfach nur warten, bis die Luft warm wird, und anschließend noch länger warten, bis die Wärme tatsächlich in die Wafer eindringen kann. Das ist ein echtes Hindernis.

Aber es gibt eine bessere Lösung: Vakuumkompatible Infrarotheizungen umgehen diesen Umweg. Anstatt sich auf die Luft zur Übertragung der Wärme zu verlassen, nutzen sie elektromagnetische Strahlung, um Energie direkt zum Ziel zu bringen.

Infrarotheizer für Vakuumkammern

Wed, 15 Jul 2026 09:53:42 +0800

Verhindern Sie eine Überhitzung der Vakuumkammer
Wenn Sie bereits Wafern oder Substrate in einer Vakuumkammer erhitzt haben, kennen Sie das Problem. Das größte Problem ist die „Überhitzung der Kammerwände“.

Herkömmliche Infrarotlampen strahlen Energie in alle Richtungen ab. In einer engen Halbleiteranlage ist das ein Problem – die Kammerwände nehmen all diese überschüssige Energie auf. Bald sind die Innenwände so heiß, dass sie Ihre Geräte beschädigen können – oder sogar die Person, die die Maschine bedient.

Eine bessere Methode zur Erwärmung
Wir lösen dieses Problem, indem wir die Physik etwas geschickter nutzen. Anstelle eines einfachen Quarztubes verwenden wir eine reflektierende Schicht auf der Rückseite der Lampe. Stellen Sie sich das wie einen Spiegel vor: Die Infrarotstrahlung wird so in die richtige Richtung gelenkt – genau dorthin, wo sie benötigt wird.

Vakuum on Intense Infrared Heating Lamps

Vakuumkompatibler Infrarotheizer

Infrarotheizer für Vakuumkammern