http://ir-heat-fire.com/es/tags/curaci%C3%B3n/ Recent content in Curación on Intense Infrared Heating Lamps Hugo es Mon, 20 Jul 2026 11:18:16 +0800 http://ir-heat-fire.com/es/posts/certified-infrared-curing-lamp-fab/ Mon, 20 Jul 2026 11:18:16 +0800 http://ir-heat-fire.com/es/posts/certified-infrared-curing-lamp-fab/ <p><img src="http://ir-heat-fire.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Fábrica certificada de lámparas de curado por infrarrojos"></p> <h1 id="evite-que-su-equipo-de-fabricación-de-semiconductores-se-sobrecaliente-por-sí-solo">Evite que su equipo de fabricación de semiconductores se sobrecaliente por sí solo</h1> <p>En una fábrica de semiconductores, el calor que no está en el lugar adecuado es un verdadero problema. Si utiliza lámparas infrarrojas convencionales, seguramente ya habrá notado este problema: la energía se dispersa por todas partes. Gran parte de ese “calor <a href="https://henruite.com">residual</a>” impacta directamente en las paredes internas del equipo. Pronto, el chasis del equipo se vuelve muy caliente al tacto, y uno debe preocuparse por posibles deformaciones en su estructura debido a la expansión térmica.</p> http://ir-heat-fire.com/es/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/ Thu, 04 Jun 2026 03:14:53 +0800 http://ir-heat-fire.com/es/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-fire.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Reflector para lámpara de curado de obleas"></p> <p>En la línea, la repetibilidad del horneado del fotoresistente es la referencia — sin margen de error. Unos pocos grados de deriva a lo largo del wafer y se genera un error de ancho de línea de 0.1 μm, que luego se acumula en cada capa de litografía. Construimos nuestro reflector para lámparas de curado de wafer para eliminar esa variabilidad. Moldea el infrarrojo en un campo térmico estable, de submilímetro, de modo que el horneado suave y el horneado duro se mantengan dentro de especificación, lote tras lote.</p>