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		<title>Rincer on Intense Infrared Heating Lamps</title>
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				<title>Lampe infrarouge étanche pour rinçage</title>
				<link>http://ir-heat-fire.com/fr/posts/implementing-waterproof-infrared-curing-for-lead-free-semiconductor-rinse-processes/</link>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-fire.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Lampe infrarouge étanche pour rinçage&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Pourquoi nous passons au rayonnement infrarouge pour les lignes de rinçage sans plomb&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Le monde des semi-conducteurs aspire de plus en plus à des normes « vertes » et sans plomb. On peut constater cela particulièrement lors de l’étape de séchage dans le procédé de rinçage.&lt;br&gt;&#xA;Pendant longtemps, nous avons utilisé des fours à convection. Mais soyons honnêtes : chauffer une grande chambre juste pour sécher quelques wafer, c’est un gaspillage d’énergie. C’est pourquoi nous avons opté pour des lampes infrarouges. Au lieu de chauffer l’air, ces lampes chauffent directement la surface des wafer. Plus besoin d’énormes systèmes de ventilation qui &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;prennent&lt;/a&gt; de l’espace et augmentent l’empreinte carbone de la salle propre.&lt;/p&gt;</description>
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