Lampe de traitement thermique rapide (RTP)

Sat, 06 Jun 2026 03:42:39 +0800

Sur le sol de fabrication

Un wafer de 300 mm repose, attendant que sa signature thermique soit ajustée. Un petit hic dans le profil de cuisson douce ou de cuisson dure, et la largeur de ligne de votre photoresist commence à dériver. Vous perdez du rendement avant même que la chambre de gravure ne voie le wafer. Nous avons conçu nos lampes de traitement thermique rapide pour stopper cette dérive dès ses débuts.

Ce qui compte sous le capot Les lampes fonctionnent avec des sources halogènes à onde courte dans un assemblage en quartz, de sorte que l’énergie soit rapide, directionnelle et sous un contrôle spectral strict. Dans la zone de traitement, l’uniformité au niveau du wafer se maintient à ±0,1 °C, et la répétabilité de la température reste verrouillée d’un cycle à l’autre. Le système est spécifié pour un environnement de salle blanche de classe 1 à 100, et le choix des composants ainsi que les joints sont conçus pour maintenir la génération de particules à zéro. La distribution de puissance est calibrée pour correspondre au budget thermique des nœuds avancés, de sorte que la montée en température, le maintien et le refroidissement se comportent exactement comme le prévoit la recette.

(RTP) on Intense Infrared Heating Lamps

Lampe de traitement thermique rapide (RTP)

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