http://ir-heat-fire.com/hi/tags/%E0%A4%A1%E0%A5%8D%E0%A4%B0%E0%A5%87%E0%A4%AF%E0%A4%B0---%E0%A4%B5%E0%A4%B9-%E0%A4%AF%E0%A4%82/ Recent content in ड्रेयर – वह यं on Intense Infrared Heating Lamps Hugo hi Sat, 25 Jul 2026 04:24:03 +0800 http://ir-heat-fire.com/hi/posts/the-technical-basis-for-infrared-curing-in-lead-free-semiconductor-manufacturing/ Sat, 25 Jul 2026 04:24:03 +0800 http://ir-heat-fire.com/hi/posts/the-technical-basis-for-infrared-curing-in-lead-free-semiconductor-manufacturing/ <p><img src="http://ir-heat-fire.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="डिजिटल इन्फ्रारेड ड्रायर कंट्रोलर"></p> <h1 id="हम-लड-फर-समकडकटर-क-नरमण-हत-इनफररड-तकनक-क-उपयग-कय-कर-रह-ह">हम लीड-फ्री सेमीकंडक्टरों के निर्माण हेतु इन्फ्रारेड तकनीक का उपयोग क्यों कर रहे हैं?</h1> <p>उद्योग, लीड-फ्री एवं शून्य-उत्सर्जन मानकों की ओर तेजी से बढ़ रहा है। यह अच्छी बात है, लेकिन इसके कारण वास्तविक निर्माण प्रक्रिया में कुछ कठिनाइयाँ आ जाती हैं।<br> लंबे समय से हमने कंवेक्शन ओवनों का ही उपयोग किया है। लेकिन समस्या यह है कि ऐसे ओवन केवल हवा को ही गर्म करते हैं। यह प्रक्रिया धीमी होती है, बहुत सारी ऊर्जा बर्बाद होती है… और सबसे खराब बात यह है कि ऐसे ओवनों से धूल एवं कण वेफरों पर फैल जाते हैं।<br> हमने हवा के उपयोग को पूरी तरह बंद करने का निर्णय लिया। डिजिटल इन्फ्रारेड नियंत्रकों के उपयोग से हम ऊर्जा को सीधे सब्सट्रेट तक पहुँचाते हैं… कोई मध्यवर्ती तत्व नहीं।</p> http://ir-heat-fire.com/hi/posts/china-wafer-dryer-manufacturer/ Fri, 26 Jun 2026 04:31:32 +0800 http://ir-heat-fire.com/hi/posts/china-wafer-dryer-manufacturer/ <p><img src="http://ir-heat-fire.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="चीन के वेफर ड्रायर निर्माता"></p> <p>फैब्रिकेशन लाइन पर, आपको तो पता ही है कि क्या होता है… बेकिंग तापमान में 0.1°C का भी अंतर, फोटोरेजिस्ट की गुणवत्ता को खराब करने के लिए पर्याप्त है। इसीलिए हमने ऐसे वेफर ड्रायर बनाए हैं, ताकि ऐसी स्थितियों में थर्मल बजट, पुनरावृत्ति की संभावना, एवं कण-नियंत्रण का उपयोग करके उत्पादन की गुणवत्ता बनाए रखी जा सके।</p> <p><strong>तकनीकी दृष्टि से क्या महत्वपूर्ण है?</strong><br> हम 150 मिमी एवं 200 मिमी आकार के सब्सट्रेटों पर ±0.1°C की समानता बनाए रखते हैं। NIR तकनीक एवं ऑप्टिमाइज्ड एयरफ्लो के कारण हॉट स्पॉट्स दूर हो जाते हैं, बिना किसी अतिरिक्त तापमान वृद्धि के। क्वार्ट्ज एवं हैलोजन मॉड्यूलों को ऐसे ही तरीके से कैलिब्रेट किया गया है कि वे फोटोरेजिस्ट के ‘सॉफ्ट बेक’ एवं ‘हार्ड बेक’ चरणों में काम कर सकें। कार्बन-फाइबर से बने हीटरों के कारण तापमान में तेजी से वृद्धि होती है, एवं जड़त्व कम रहता है।</p>