Lampu PVD (Physical Vapor Deposition)

Mon, 22 Jun 2026 22:58:49 +0800

Di fasilitas produksi PVD, batasan-batasan yang harus dipatuhi semakin ketat dari waktu ke waktu. Setiap kuartal, sepertinya kita harus terus memperkecil batasan-batasan tersebut. Sedikit saja perubahan suhu pada lampu PVD sudah cukup untuk mengganggu proses pembakaran lapisan fotoresist. Akibatnya, terjadi variasi pada ketebalan lapisan dan lebar garis-garis yang dihasilkan. Kami merancang lampu PVD ini agar dapat menjaga stabilitas suhu, dari siklus ke siklus.

Yang benar-benar penting adalah… Lampu-lampu ini menggunakan sinar inframerah berpanjang gelombang pendek, sehingga proses pemanasan berlangsung cepat dan kontrol suhu tetap stabil. Di seluruh area pembakaran, tingkat keseragaman suhu pada wafer mencapai ±0,1°C—angka yang cukup untuk melindungi kualitas wafer selama proses pembakaran. Lampu-lampu ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan konstruksi yang kedap udara dan tidak menghasilkan partikel apa pun. Sistem termalnya dirancang untuk beroperasi 24/7, dan data penggunaan menunjukkan bahwa tidak ada kerusakan yang terjadi selama lebih dari 5.000 jam, dengan penyimpangan suhu kurang dari 5%.

(Fisik) on Intense Infrared Heating Lamps

Lampu PVD (Physical Vapor Deposition)