Lampu untuk memanaskan bahan fotoresist
Di fasilitas litografi, kita akan segera menyadari bahwa perubahan suhu sebesar setengah derajat saja sudah cukup untuk membuat kontrol dimensi...
Pemanas pemanggangan resist E beam
Di lantai litografi, pemanggangan resist E-beam bukan sekadar pemanasan. Ini adalah peristiwa termal yang menentukan kontrol dimensi kritis....