<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Curatura on Intense Infrared Heating Lamps</title>
		<link>http://ir-heat-fire.com/it/tags/curatura/</link>
		<description>Recent content in Curatura on Intense Infrared Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>it</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 04 Jun 2026 03:14:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-fire.com/it/tags/curatura/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Riflettore per lampada di indurimento wafer</title>
				<link>http://ir-heat-fire.com/it/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 04 Jun 2026 03:14:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-fire.com/it/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-fire.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Riflettore per lampada di indurimento wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;On line, la ripetibilità della cottura del fotoresist è il parametro di riferimento—nessuno spazio di manovra. Anche una deviazione di pochi gradi su tutto il wafer genera un errore di larghezza linea di 0,1 μm, che si somma progressivamente in ogni strato di litografia. Abbiamo sviluppato il nostro riflettore per le lampade di polimerizzazione wafer per eliminare questa variabilità. Modella l’infrarosso in un campo termico stabile e sotto il millimetro, in modo che la soft bake e la hard bake rimangano entro le specifiche, lotto dopo lotto.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
