http://ir-heat-fire.com/ja/tags/%E3%83%99%E3%83%BC%E3%82%AD%E3%83%B3%E3%82%B0/ Recent content in ベーキング on Intense Infrared Heating Lamps Hugo ja Sat, 20 Jun 2026 05:22:04 +0800 http://ir-heat-fire.com/ja/posts/photoresist-baking-lamp/ Sat, 20 Jun 2026 05:22:04 +0800 http://ir-heat-fire.com/ja/posts/photoresist-baking-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-fire.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="フォトレジスト焼成ランプ"></p> <p>リソグラフィーの現場では、わずか0.5度の温度変動だけで、重要な寸法制御が規格を外してしまうことがある。これらの加熱装置は単なるヒーターではなく、プロセスを安定させるための重要な要素なのだ。私たちは、半導体製造における厳しい要件に合わせてこの装置を開発した。つまり、各ウェーハが毎回同じ熱処理条件を受ける必要があるのだ。</p> http://ir-heat-fire.com/ja/posts/e-beam-resist-baking-heater/ Tue, 02 Jun 2026 05:48:19 +0800 http://ir-heat-fire.com/ja/posts/e-beam-resist-baking-heater/ <p><img src="http://ir-heat-fire.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Eビームレジストベーキングヒーター"></p> <p>リソグラフィフロアにおけるEビームレジストのベークは単なるウォームアップではない。これはクリティカルディメンション（CD）制御を決定づける熱処理イベントである。ウェハー上での2℃の温度変動がナノメートル単位のパターンシフトを引き起こし、そのナノメートルが良品とスクラップを分ける。私たちはこの現実を踏まえ、Eビームレジストベーク用ヒーターを設計した：熱処理イベントを安定、クリーン、かつ再現性高く保つこと。</p>