http://ir-heat-fire.com/ms/tags/menentang/ Recent content in Menentang on Intense Infrared Heating Lamps Hugo ms Tue, 02 Jun 2026 05:48:19 +0800 http://ir-heat-fire.com/ms/posts/e-beam-resist-baking-heater/ Tue, 02 Jun 2026 05:48:19 +0800 http://ir-heat-fire.com/ms/posts/e-beam-resist-baking-heater/ <p><img src="http://ir-heat-fire.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Pemanas pembakar e beam resist"></p> <p>Pada tingkat litografi, proses bakar resist E-beam <a href="https://henruite.com">bukan</a> sekadar pemanasan awal. Ia adalah peristiwa terma yang menetapkan kawalan dimensi kritikal. Peralihan suhu sebanyak 2°C merentasi wafer boleh menggeser ciri-ciri sebanyak nanometer, dan nanometer adalah perbezaan antara hasil yang baik dengan sisa. Kami membina pemanas bakar resist E-beam berdasarkan realiti tersebut: mengekalkan kestabilan, kebersihan, dan kebolehulangan peristiwa terma.</p> <p><strong>Apa yang penting, secara teknikal</strong></p> <p>Kami mengekalkan keseragaman suhu pada tahap wafer dalam ±0.1°C merentasi permukaan resist. Pendedahan E-beam sensitif terhadap kecerunan suhu tempatan, dan kecerunan tersebut mengganggu pemindahan dos ke ciri. Pemanas menggunakan elemen inframerah gelombang pendek, dengan zon pemanasan yang disalut kuarza untuk mengurangkan penghasilan zarah — selaras dengan proses dalam persekitaran bilik bersih Kelas 1–100.</p>