<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Photoresist on Intense Infrared Heating Lamps</title>
		<link>http://ir-heat-fire.com/ms/tags/photoresist/</link>
		<description>Recent content in Photoresist on Intense Infrared Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 05:22:05 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-fire.com/ms/tags/photoresist/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pembakaran photoresist</title>
				<link>http://ir-heat-fire.com/ms/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 05:22:05 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-fire.com/ms/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-fire.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Lampu pembakaran photoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasiliti litografi, kita akan mempelajari dengan cepat bahawa perubahan suhu sebanyak setengah darjah sahaja pun boleh menyebabkan kawalan dimensi yang tepat menjadi tidak terkawal. Lampu yang digunakan untuk proses pemanasan ini bukan sekadar alat pemanas semata-mata; ia merupakan alat yang membantu mengekalkan ketepatan proses &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;pengeluaran&lt;/a&gt; semikonduktor. Kami mencipta lampu ini untuk memenuhi keperluan ketepatan yang sangat tinggi dalam pengeluaran semikonduktor, di mana setiap wafer perlu mengalami proses pemanasan yang sama setiap kali.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kita perlu mencapai keseragaman suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C di seluruh permukaan yang dipanaskan. Ini dicapai menggunakan gelombang inframerah pendek bersama pemancar jenis kuarsa-halogen yang mampu memberikan respons yang cepat dan konsisten. Keseragaman suhu antara setiap kali proses berlaku kekal dalam lingkungan ±0.2°C, supaya profil pemanasan tetap stabil. Sistem ini berfungsi dengan baik dalam persekitaran kelas 1–100, tanpa menghasilkan sebarang zarah yang boleh menyebabkan kecacatan pada wafer. Penggunaan tenaga juga dikawal dengan teliti, dan pemancar tersebut dapat bertahan lebih dari 5,000 jam.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
