Pemanas inframerah yang serasi dengan vakum

Mon, 20 Jul 2026 11:05:00 +0800

Berhenti menunggu wafer anda panas terlebih dahulu

Jika anda pernah bekerja dalam proses pemprosesan semikonduktor yang kompleks, anda pasti tahu betapa menyakitkannya harus menunggu udara menjadi panas sebelum haba tersebut dapat menembusi wafer. Ini merupakan halangan besar dalam proses pengeluaran.

Tetapi ada cara yang lebih baik. Pemanas inframerah yang sesuai untuk digunakan dalam keadaan vakum membolehkan haba disalurkan secara langsung ke permukaan wafer, tanpa perlu bergantung pada udara untuk menghantar haba.

Mengapa kaedah konveksi memperlambat proses pengeluaran

Udara panas bergerak dengan perlahan. Ini menyebabkan kelewatan dalam proses pengeluaran. Selain itu, jika anda bertukar dari keadaan vakum ke keadaan bilik yang penuh dengan gas demi mendapatkan haba, ia akan menyebabkan pencemaran dan perubahan tekanan yang negatif.

Pemanas inframerah untuk bilik vakum

Wed, 15 Jul 2026 09:53:43 +0800

Hentikan masalah pemanasan berlebihan pada chamber vakum anda

Jika anda pernah memanaskan wafer atau bahan substrat di dalam chamber vakum, anda pasti tahu betapa sukarnya tugas tersebut. Masalah utamanya ialah “panas yang berlebihan”.

Lampu IR biasa sebenarnya hanyalah mentol yang memancarkan tenaga ke semua arah. Dalam persekitaran semikonduktor yang sempit, ini merupakan masalah besar. Dinding chamber akan menyerap semua tenaga yang tidak digunakan tersebut. Akibatnya, dinding dalaman akan menjadi terlalu panas, dan ini boleh merosakkan peralatan, atau lebih buruk lagi, membahayakan orang yang mengendalikan mesin tersebut.

Vakum on Intense Infrared Heating Lamps

Pemanas inframerah yang serasi dengan vakum

Berhenti menunggu wafer anda panas terlebih dahulu

Mengapa kaedah konveksi memperlambat proses pengeluaran

Pemanas inframerah untuk bilik vakum

Hentikan masalah pemanasan berlebihan pada chamber vakum anda