Wafer on Intense Infrared Heating Lamps

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Tue, 28 Jul 2026 04:49:32 +0800

Melindungi Bahan-bahan Semasa Memanaskan Wafer Kimia

Sejujurnya, menggunakan lampu inframerah di atas bekas pembersihan bahan kimia ibarat bermain dengan api. Anda mempunyai wap-wap yang mudah terbakar di sekelilingnya. Cukup sekadar ada percikan api atau permukaan yang menjadi terlalu panas, dan itu sudah cukup untuk mencetuskan kebakaran. Jadi, kita perlu berhati-hati.

Itulah sebabnya kita tidak boleh sekadar meletakkan lampu tersebut di situ dan berharap semuanya akan berjalan lancar. Kita perlu mereka bentuk lampu inframerah dengan cara yang sesuai agar ia dapat melindungi diri daripada risiko kebakaran.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Mon, 27 Jul 2026 08:26:22 +0800

Cara yang Lebih Baik untuk Mengeringkan Wafer MEMS

Jika anda pernah terlibat dalam proses pembuatan sensor MEMS, anda pasti tahu betapa sukarunya proses ini. Untuk mengeringkan wafer tanpa meninggalkan sisa-sisa cecair, atau lebih buruk lagi, menyebabkan wafer berubah bentuk akibat tekanan haba, merupakan cabaran yang sangat besar.

Kebanyakan orang menggunakan pemanas konvensional untuk tujuan ini. Namun, cara ini mempunyai kelemahan – ia akan memanaskan dinding dalaman ruang mesin tersebut. Ini bukan sahaja membazir tenaga, tetapi juga membahayakan keselamatan orang yang perlu masuk ke dalam mesin tersebut.

Pemanas wafer yang cekap dari segi tenaga

Thu, 23 Jul 2026 11:31:32 +0800

Mengurangkan penggunaan karbon di fasiliti pembuatan semikonduktor: Mengapa pemanasan menggunakan gelombang inframerah merupakan pilihan yang tepat
Jika kita benar-benar ingin mencapai sasaran kelestarian karbon di fasiliti pembuatan semikonduktor, kita perlu berhenti membazir tenaga. Penyebab utamanya ialah cara kita memanaskan wafer tersebut.

Kebanyakan pemanas konvensional sebenarnya hanyalah alat pemanas untuk seluruh mesin. Pemanas ini akan memindahkan haba ke bahagian chasis dan udara di sekelilingnya, sehingga menyebabkan pembaziran tenaga yang besar. Itulah sebabnya kita beralih kepada lampu inframerah berfrekuensi tinggi. Dengan cara ini, tenaga dipancarkan secara langsung ke arah wafer. Cara ini lebih cepat, lebih bersih, dan jauh lebih efisien.

Lampu pengeringan wafer secara borong

Mon, 06 Jul 2026 07:36:25 +0800

Pengenalan
Kami mencipta lampu pengering wafer ini sebagai alat yang sangat berguna—alat yang boleh diharapkan untuk digunakan ketika barisan pengemasan dan ujian sedang berjalan pada kelajuan penuh. Ini bukanlah pemanas biasa yang boleh digunakan secara sembarangan. Ia merupakan alat khusus untuk barisan pengeluaran, direka untuk menghasilkan haba yang stabil dan kuat, agar wafer dapat dikeringkan dengan cepat, sambil meminimumkan masa henti operasi.

Butiran Teknikal
Mari kita lihat apa yang menjadikan lampu ini efektif. Ia beroperasi pada voltan 400V dan menghasilkan tenaga sebanyak 2500W. Tenaga tersebut cukup untuk menghilangkan bahan pelarut dari permukaan wafer dengan cepat. Panjang tiubnya ialah 300mm—ukuran yang sesuai untuk menutupi tray wafer tanpa memerlukan ruang yang berlebihan. Ukuran yang tepat ini membolehkan lebih banyak wafer diproses dalam masa yang sama.

Pengeluar mesin pengering wafer di China

Fri, 26 Jun 2026 04:31:32 +0800

Di bilik pengeluaran tersebut, anda tahu bagaimana prosesnya berjalan. Perubahan suhu sebanyak 0.1°C sudah cukup untuk merosakkan kualiti bahan fotoresist tersebut. Itulah sebabnya kami membina alat pengering wafer ini, agar dapat memastikan kawalan suhu yang tepat, serta mengurangkan risiko kecacatan pada wafer.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kita perlu memastikan keseragaman suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C, pada substrat berukuran 150 mm dan 200 mm. Sistem NIR dan aliran udara yang dioptimumkan dapat menghilangkan bahagian-bahagian yang terlalu panas tanpa menyebabkan masalah lain. Modul kuarsa dan halogen pula diselaraskan agar suhu tetap berada dalam julat yang sesuai untuk proses pembakaran fotoresist. Pemanas yang diperkuat dengan serat karbon pula membolehkan peningkatan suhu secara cepat, dengan inersia yang rendah.

Lampu pengeringan wafer sel solar

Sun, 07 Jun 2026 03:32:57 +0800

Di lantai pengilangan, tidak perlu banyak untuk kehilangan banyak. Tanda air samar selepas pembersihan, profil pemanggangan yang tidak rata—satu isu dan satu lot wafer sel solar keseluruhan boleh menjadi tidak teratur. Lampu pengering tradisional cenderung untuk berubah drift, dan drift itu menghasilkan gradasi terma. Akhirnya anda mendapat fotoresist yang terdistorsi dan pencemaran partikel yang tidak dijangka. Kosnya muncul sebagai bahan buangan, kerja semula, dan kapasiti yang tidak boleh diperoleh kembali.

Apa yang penting di bawah hud

Reflektor untuk lampu pengerasan wafer

Thu, 04 Jun 2026 03:14:53 +0800

On the line, kebolehulangan pembakaran photoresist adalah garis asas—tiada ruang untuk ralat. Beberapa darjah pergeseran merentasi wafer dan anda mencetak ralat lebar garisan 0.1 μm, kemudian menyaksikan ia bertambah melalui setiap lapisan litografi. Kami membina reflektor kami untuk lampu pengerasan wafer bagi menghapuskan variabiliti itu. Ia membentuk inframerah kepada medan terma sub-milimeter yang stabil, supaya soft bake dan hard bake anda kekal dalam spesifikasi, dari satu kumpulan ke kumpulan berikutnya.

Apa yang penting, dari segi teknikal
Reflektor ini disesuaikan untuk penghantaran NIR dengan kawalan sudut yang ketat, memetakan intensiti dalam ±0.1°C merentasi satah wafer. Geometri dioptimumkan untuk keseragaman, bukan fluks puncak, kerana pengerasan photoresist bergantung kepada bajet terma yang konsisten. Permukaan direka untuk partikel rendah dan reflektansi stabil, mengekalkan kiraan partikel pada tahap yang diperlukan dalam bilik bersih Kelas 1–100. Dan kebolehulangan output kekal melebihi 5,000+ jam, dengan pergeseran intensiti kurang daripada 5% walaupun dalam operasi 24/7.