Op de productiehal is het proces bekend: een afwijking van 0,1°C in de baktemperatuur is al voldoende om het resultaat van het bewerken van de fotoresist onbruikbaar te maken. Daarom hebben we deze drogers ontworpen, zodat ze kunnen worden gebruikt wanneer de thermische omstandigheden, de herhaalbaarheid en de controle op deeltjes bepalend zijn voor de kwaliteit van het product.
Wat technisch gezien belangrijk is: We behouden een uniformiteit van ±0,1°C op de wafer, ongeacht of het om substraten van 150 mm of 200 mm gaat. NIR-technologie in combinatie met een geoptimaliseerde luchtcirculatie zorgt ervoor dat er geen ‘hot spots’ ontstaan. De kwarts- en halogeenmodules zijn gekalibreerd zodat ze binnen de juiste temperatuurbereiken blijven. De verwarmers gemaakt van koolstofvezels zorgen voor een snelle temperatuurstijging met minimale inertie.
Compatibiliteit met steriele omgevingen is geen extra vereiste. Er zijn configuraties beschikbaar voor klassen 1–100; er wordt geen vuil gegenereerd en de afvoerfiltering voorkomt dat er vuil op de wafer terechtkomt. De regelingscyclus is zo ingesteld dat elke batch dezelfde kwaliteit heeft als de vorige.
Waarom dit werkt: Bij lithografie zorgt het behouden van de juiste baktemperatuur ervoor dat de belangrijke dimensies nauwkeurig blijven. Dit verminderd de afwijkingen in de dikte van de lijnen en daarmee ook de noodzaak tot herwerken. Tijdens het schoonmaken en drogen wordt het water effectief verwijderd, zodat de defectdichtheid afneemt.
Voor het verpakken kan dezelfde platform worden gebruikt voor het harden van de encapsulant en underfill. Hierdoor wordt de cyclusduur verkort en wordt er minder energie verbruikt. Het resultaat is een voorspelbare productie, minder onbruikbare wafers en minder onverwachte stilstandtijden.
Wat je moet onthouden bij installatie en onderhoud: Zorg ervoor dat de grootte van de afvoergleuven overeenkomt met het drukverschil in de steriele omgeving. Als de geleidingen niet goed op elkaar aansluiten, zal dit leiden tot turbulentie, waardoor de uniformiteit verstoord wordt. De apparatuur heeft ook een aparte stroombron nodig om stabiel te blijven tijdens de snelle temperatuurstijgingen.
Het is belangrijk om de apparatuur iedere 5.000 uur te kalibreren, zodat de temperatuur nauwkeurig blijft. Als alles goed is ingesteld, kan de apparatuur 24/7 draaien, waardoor er consistente prestaties worden geleverd bij het drogen van wafers, het bewerken van fotoresist en het harden van materialen.