Lâmpada infravermelha sem ozônio

Mon, 01 Jun 2026 19:59:38 +0800

No chão de fábrica, o processamento de fotorresiste não tolera deriva térmica. Um soft bake com desvio de apenas 0,5°C já começa a espalhar variação de CD pelo wafer. Instabilidade no hard bake? É assim que surgem scumming e problemas de aderência. Lâmpadas convencionais agravam a situação ao gerar ozônio, que degrada o fotorresiste e aumenta a contagem de partículas — especialmente em salas limpas Classe 1–100.

Aqui está o que realmente importa.

Essas lâmpadas infravermelhas livres de ozônio emitem energia de onda curta com controle espectral alinhado à absorção do fotorresiste. Isso mantém rígidos os gradientes de temperatura entre a superfície e o volume. Na placa de bake, a uniformidade a nível de wafer mantém-se dentro de ±0,1°C, e a repetibilidade do setpoint fica em ±0,5°C de lote para lote. A ausência de ozônio elimina artefatos de oxidação e reduz a carga nos scrubbers. O invólucro de quartzo é projetado para baixa emissão de gases e mínima liberação de partículas, evitando perdas de rendimento por contaminação.

Ozônio on Intense Infrared Heating Lamps

Lâmpada infravermelha sem ozônio