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		<title>Waffer on Intense Infrared Heating Lamps</title>
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				<title>Refletor para lâmpada de cura de wafer</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-fire.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Refletor para lâmpada de cura de wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;linha&lt;/a&gt;, a repetibilidade do bake do fotoresiste é o parâmetro básico—sem margem para erro. Variações de poucos graus ao longo da pastilha resultam em erro de 0,1 μm na largura da linha impressa, que se acumula em cada camada de litografia. Desenvolvemos nosso refletor para lâmpadas de cura de wafers para eliminar essa variabilidade. Ele direciona o infravermelho formando um campo térmico estável, submilimétrico, garantindo que o soft bake e o hard bake permaneçam dentro das especificações, lote após lote.&lt;/p&gt;</description>
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