<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Рефлектор on Intense Infrared Heating Lamps</title>
		<link>http://ir-heat-fire.com/ru/tags/%D1%80%D0%B5%D1%84%D0%BB%D0%B5%D0%BA%D1%82%D0%BE%D1%80/</link>
		<description>Recent content in Рефлектор on Intense Infrared Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 04 Jun 2026 03:14:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-fire.com/ru/tags/%D1%80%D0%B5%D1%84%D0%BB%D0%B5%D0%BA%D1%82%D0%BE%D1%80/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Рефлектор для лампы отверждения пластин</title>
				<link>http://ir-heat-fire.com/ru/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 04 Jun 2026 03:14:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-fire.com/ru/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-fire.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Рефлектор для лампы отверждения пластин&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На линии повторяемость запекания фоторезиста — это эталон, без допуска погрешностей. Несколько градусов отклонения температуры по пластине приводят к ошибке ширины линии в 0,1 μm, которая накапливается на каждом слое литографии. Мы разработали отражатель для ламп отверждения пластин, чтобы устранить эту вариабельность. Он формирует инфракрасное излучение в стабильное термическое поле с размером менее миллиметра, благодаря чему параметры мягкого и жёсткого запекания соответствуют техническим требованиям из партии в партию.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что важно с технической точки зрения&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Этот отражатель настроен на излучение в ближнем ИК-диапазоне (NIR) с точным угловым контролем, обеспечивая распределение интенсивности с отклонением не более ±0,1°C по плоскости пластины. Геометрия оптимизирована для равномерности, а не максимального потока, поскольку качество отверждения фоторезиста определяется стабильным тепловым бюджетом. Поверхность спроектирована с учётом низкого уровня частиц и стабильного коэффициента отражения, что позволяет поддерживать концентрацию частиц в чистых помещениях классов 1–100 на требуемом уровне. Повторяемость выходной мощности сохраняется в течение более 5 000 часов работы, при этом дрейф интенсивности не превышает 5% даже при круглосуточной эксплуатации.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
