http://ir-heat-fire.com/uk/tags/%D0%B2%D0%B0%D1%84%D0%BB%D1%8F/ Recent content in Вафля on Intense Infrared Heating Lamps Hugo uk Sun, 07 Jun 2026 03:32:57 +0800 http://ir-heat-fire.com/uk/posts/solar-cell-wafer-drying-lamp/ Sun, 07 Jun 2026 03:32:57 +0800 http://ir-heat-fire.com/uk/posts/solar-cell-wafer-drying-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-fire.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Лампа для сушіння пластин сонячних елементів"></p> <p>На виробничому майданчику навіть незначна помилка може спричинити великі втрати. Ледь помітний водяний знак після очищення, профіль випікання, який не є плоским — одна проблема, і ціла партія пластин сонячних елементів може бути зіпсована. Традиційні сушильні лампи тенденційно дрейфують, що утворює теплові градієнти. У результаті отримуємо деформований фоточутливий шар і забруднення частинками, які не виявили заздалегідь. Вартість цих проблем проявляється у вигляді бракованої продукції, необхідності переробки і втрати виробничої потужності.</p> <p><strong>Що має значення всередині системи</strong><br> Ми розробили лампу для сушіння пластин сонячних елементів із застосуванням короткохвильових інфрачервоних (SWIR) галогенних випромінювачів у кварцовому корпусі. Енергія подається швидко і спрямовано, з жорстким спектральним контролем. Температура пластини по всій активній зоні підтримується з точністю до ±0,1°C, а повторюваність заданої температури утримується в межах ±0,5°C від зміни до зміни. Система працює у чистих приміщеннях класу 1–100 без генерації частинок, що підтверджується in-situ моніторингом частинок. Стабільність вихідної потужності заявлена з варіацією не більше 5% протягом понад 5 000 годин, що дозволяє працювати цілодобово з мінімальним переналаштуванням.</p> http://ir-heat-fire.com/uk/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/ Thu, 04 Jun 2026 03:14:53 +0800 http://ir-heat-fire.com/uk/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-fire.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Рефлектор для лампи випалювання пластин"></p> <p>On the line, повторюваність випікання фоторезисту є базовою вимогою — без допустимих відхилень. Відхилення на декілька градусів по всій пластині призводить до помилки у товщині лінії 0,1 μm, яка потім накопичується через кожен шар літографії. Ми розробили наш рефлектор для ламп відпалу пластин, щоб усунути цю нестабільність. Він формує інфрачервоне випромінювання у стабільне теплове поле субміліметрового розміру, забезпечуючи дотримання параметрів м’якого та твердого відпалу партія за партією.</p> <p><strong>Що має значення з технічної точки зору</strong><br> Цей рефлектор налаштований для доставки NIR з жорстким контролем кута, забезпечуючи розподіл інтенсивності в межах ±0,1°C по площині пластини. Геометрія оптимізована під рівномірність, а не максимальний потік, оскільки якість відпалу фоторезисту залежить від стабільного теплового бюджету. Поверхня спроектована для низької кількості частинок і стабільного коефіцієнта відбиття, підтримуючи рівень частинок у межах стандартів чистоти Class 1–100. Повторюваність виходу зберігається понад 5 000 годин роботи з дрейфом інтенсивності менше 5%, навіть при цілодобовій експлуатації.</p>