<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bánh Wafer on Intense Infrared Heating Lamps</title>
		<link>http://ir-heat-fire.com/vi/tags/b%C3%A1nh-wafer/</link>
		<description>Recent content in Bánh Wafer on Intense Infrared Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 04 Jun 2026 03:14:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-fire.com/vi/tags/b%C3%A1nh-wafer/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Gương phản xạ cho đèn chiếu đông wafer</title>
				<link>http://ir-heat-fire.com/vi/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 04 Jun 2026 03:14:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-fire.com/vi/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-fire.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Gương phản xạ cho đèn chiếu đông wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trên dây chuyền, độ lặp lại của quá trình nung &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;photoresist&lt;/a&gt; là cơ sở bắt buộc—không có chỗ cho sai số. Sai lệch chỉ vài độ trên toàn bộ wafer có thể gây ra lỗi chiều rộng đường kẻ 0,1 μm, sau đó lỗi này sẽ cộng dồn qua từng lớp lithography. Chúng tôi đã thiết kế bộ phản xạ cho đèn nung wafer nhằm loại bỏ biến động đó. Nó định hình tia hồng ngoại thành trường nhiệt ổn định dưới kích thước milimet, giúp quá trình soft bake và hard bake luôn đạt tiêu chuẩn, lặp lại theo từng mẻ.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
