<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Chùm Tia on Intense Infrared Heating Lamps</title>
		<link>http://ir-heat-fire.com/vi/tags/ch%C3%B9m-tia/</link>
		<description>Recent content in Chùm Tia on Intense Infrared Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 02 Jun 2026 05:48:19 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-fire.com/vi/tags/ch%C3%B9m-tia/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Bộ gia nhiệt nướng lớp kháng E beam</title>
				<link>http://ir-heat-fire.com/vi/posts/e-beam-resist-baking-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 02 Jun 2026 05:48:19 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-fire.com/vi/posts/e-beam-resist-baking-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-fire.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Bộ gia nhiệt nướng lớp kháng E beam&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trên sàn lithography, quá trình nướng E-beam resist không chỉ là khâu làm nóng trước. Đây là sự kiện nhiệt quyết định kiểm soát kích thước quan trọng. Sai lệch 2°C trên toàn bộ &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;wafer&lt;/a&gt; có thể làm dịch chuyển các đặc điểm đến vài nanomet, và nanomet chính là khoảng cách phân biệt giữa tỷ lệ sản phẩm đạt và phế phẩm. Chúng tôi thiết kế bộ gia nhiệt nướng E-beam resist dựa trên thực tế đó: giữ sự kiện nhiệt ổn định, sạch và có thể lặp lại.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
