Nướng on Intense Infrared Heating Lamps

Đèn nướng chất cảm quang

Sat, 20 Jun 2026 05:22:05 +0800

Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, người ta sẽ nhanh chóng nhận ra rằng việc điều chỉnh nhiệt độ chỉ ½ độ cũng có thể khiến cho các thông số kỹ thuật quan trọng không còn nằm trong giới hạn cho phép. Những chiếc bóng đèn dùng để điều chỉnh nhiệt độ này không chỉ đơn thuần là những thiết bị sưởi ấm mà còn là yếu tố quan trọng giúp duy trì sự ổn định trong quy trình sản xuất. Chúng được thiết kế để đáp ứng những yêu cầu khắt khe trong ngành sản xuất bán dẫn, nơi mỗi tấm wafer đều phải trải qua cùng một quy trình xử lý nhiệt.

Đèn nướng trong môi trường khí kiểm soát

Wed, 03 Jun 2026 12:07:30 +0800

Trên sàn sản xuất, quá trình nung photoresist không bao giờ là “chỉ một bước nhiệt độ đơn thuần.” Đó là một ngân sách nhiệt mà bạn phải kiểm soát chặt chẽ.
Độ lệch 0,5°C trong quá trình soft bake hoặc hard bake sẽ làm dịch chuyển phân bố kích thước quan trọng (CD). Một sự kiện bụi hạt có thể làm hỏng toàn bộ lô. Khi dây chuyền hoạt động theo lịch 7×24, thiết bị nung phải duy trì cùng một hồ sơ nhiệt liên tục, ca này qua ca khác, không có ngoại lệ.

Bộ gia nhiệt nướng lớp kháng E beam

Tue, 02 Jun 2026 05:48:19 +0800

Trên sàn lithography, quá trình nướng E-beam resist không chỉ là khâu làm nóng trước. Đây là sự kiện nhiệt quyết định kiểm soát kích thước quan trọng. Sai lệch 2°C trên toàn bộ wafer có thể làm dịch chuyển các đặc điểm đến vài nanomet, và nanomet chính là khoảng cách phân biệt giữa tỷ lệ sản phẩm đạt và phế phẩm. Chúng tôi thiết kế bộ gia nhiệt nướng E-beam resist dựa trên thực tế đó: giữ sự kiện nhiệt ổn định, sạch và có thể lặp lại.