<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>真空 on Intense Infrared Heating Lamps</title>
		<link>http://ir-heat-fire.com/zh/tags/%E7%9C%9F%E7%A9%BA/</link>
		<description>Recent content in 真空 on Intense Infrared Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>zh</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 20 Jul 2026 11:05:00 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-fire.com/zh/tags/%E7%9C%9F%E7%A9%BA/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>与真空环境兼容的红外加热器</title>
				<link>http://ir-heat-fire.com/zh/posts/vacuum-compatible-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 20 Jul 2026 11:05:00 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-fire.com/zh/posts/vacuum-compatible-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-fire.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;与真空环境兼容的红外加热器&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;别再等待晶圆加热了&#34;&gt;别再等待晶圆加热了&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;如果你从事过半导体深度加工工作，那么你一定知道强制对流式加热方式的弊端。它的加热速度极其缓慢，你只能坐等空气变热，然后再等待热量渗入晶圆。这无疑是个巨大的瓶颈。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>真空腔体红外加热器</title>
				<link>http://ir-heat-fire.com/zh/posts/vacuum-chamber-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 15 Jul 2026 09:53:43 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-fire.com/zh/posts/vacuum-chamber-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-fire.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;真空腔体红外加热器&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;防止真空室过热&#34;&gt;防止真空室过热&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;如果您曾经在真空室内加热晶圆或基片，那么您一定了解其中的不便之处。最麻烦的问题就是热量积聚现象。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;普通的红外灯其实只是向各个方向散发能量的灯泡而已。在空间有限的半导体生产环境中，这显然是个问题——真空室的墙壁会吸收掉所有这些多余的能量。很快，真空室的内壁就会过热，进而导致设备变形，甚至可能伤到操作人员。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
