PVD 物理気相析出 ランプ

PVDプロセスにおいては、工程の許容範囲がどんどん狭くなっています。四半期ごとに、さらに制約が増えているように感じます。一つのランプの温度変動だけで、フォトレジストの硬化プロファイルが乱れてしまい、結果としてパターンの重なりや線幅のばらつきが生じます。私たちは、シフトを重ねても、サイクルを繰り返し...