Dalam proses pembakaran fotoresist, kita tidak boleh membiarkan suhu berubah-ubah semasa proses tersebut berlangsung. Jika ada kawasan yang terlalu panas, lapisan katalis akan berubah kedudukannya. Sebaliknya, jika ada kawasan yang terlalu sejuk, hasil pemprosesan akan menjadi tidak memuaskan. Itulah sebabnya lampu pengering katalis untuk sel bahan bakar direka khusus untuk digunakan di bilik bersih: untuk mengeringkan wafer, proses litografi, pengeringan selepas pembersihan, dan banyak lagi – semua dalam satu alat yang sesuai untuk digunakan di bilik bersih.
Apa yang penting di bahagian dalaman lampu tersebut
Kami menggunakan elemen inframerah gelombang pendek yang mempunyai masa tindak balas yang cepat serta kawalan spektrum yang tepat, agar cahaya dapat mencapai kawasan katalis dengan efektif. Keseragaman suhu pada tahap wafer kekal pada ±0.1°C di kawasan panas, supaya setiap komponen mendapat suhu yang sama. Bahagian lampu ini bersesuaian dengan standard Class 1–100, tanpa penghasilan zarah-zarah yang boleh merosakkan kualiti produk. Kuasa yang dihasilkan pula kekal pada ±0.5%, dan ketepatan pengiraan suhu dicapai melalui sistem pengukuran yang canggih.
Mengapa ia sesuai untuk digunakan dalam proses pengeluaran
Dalam praktiknya, penggunaan lampu ini mengurangkan jumlah bahan yang rosak akibat proses pembakaran fotoresist yang tidak konsisten. Hasil pengeringan juga lebih baik, dan tiada kesan “watermark” pada permukaan produk. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana lampu ini dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat, tanpa melebihi hadnya. Selain itu, reka bentuk lampu ini membolehkannya beroperasi 24/7. Kami telah menggunakan lampu ini selama lebih dari 5,000 jam, dengan penurunan prestasi kurang dari 5%. Profil suhu juga tetap konsisten dari satu sesi ke sesi yang lain.
Beberapa perkara perlu diperhatikan semasa penggunaan lampu
Lampu ini boleh digabungkan dengan alat-alat standard, tetapi penyesuaian posisi lampu dan sifat emisiviti permukaan substrat masih perlu diberi perhatian. Untuk hasil yang terbaik, pastikan suhu yang ditetapkan disesuaikan dengan menggunakan wafer yang dilengkapi alat pengukur yang tepat. Pastikan juga bahawa alat-alat yang digunakan tidak menghalang cahaya daripada sampai ke kawasan yang dituju. Anggaplah tingkap kuarsa sebagai bahan yang mudah rosak; bersihkannya secara berkala untuk memastikan keseragaman suhu dan mengelakkan perubahan yang tidak diinginkan.