Di bilik pengeluaran tersebut, anda tahu bagaimana prosesnya berjalan. Perubahan suhu sebanyak 0.1°C sudah cukup untuk merosakkan kualiti bahan fotoresist tersebut. Itulah sebabnya kami membina alat pengering wafer ini, agar dapat memastikan kawalan suhu yang tepat, serta mengurangkan risiko kecacatan pada wafer.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kita perlu memastikan keseragaman suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C, pada substrat berukuran 150 mm dan 200 mm. Sistem NIR dan aliran udara yang dioptimumkan dapat menghilangkan bahagian-bahagian yang terlalu panas tanpa menyebabkan masalah lain. Modul kuarsa dan halogen pula diselaraskan agar suhu tetap berada dalam julat yang sesuai untuk proses pembakaran fotoresist. Pemanas yang diperkuat dengan serat karbon pula membolehkan peningkatan suhu secara cepat, dengan inersia yang rendah.
Keserasian dengan bilik bersih bukanlah perkara tambahan. Anda boleh memilih konfigurasi Kelas 1–100, di mana tiada zarah debu yang terhasil, dan sistem penapisan ekzos pula membantu mencegah kotoran daripada merosakkan wafer. Sistem kawalan juga diselaraskan agar setiap kelompok wafer yang diproses mempunyai kualiti yang sama.
Mengapa ia berkesan di tempat yang penting
Dalam proses litografi, memastikan suhu pembakaran fotoresist berada dalam julat yang tepat dapat membantu mengawal dimensi-dimensi penting wafer, sekali gus mengurangkan risiko kecacatan. Dalam proses pembersihan dan pengeringan, air dapat dikeluarkan tanpa meninggalkan kesan negatif pada wafer, sehingga mengurangkan kepadatan kecacatan.
Untuk proses pembungkusan pula, platform ini dapat digunakan untuk proses pengeringan bahan pengisi dan penyelesaian lain dengan profil yang stabil. Ini membolehkan masa proses yang lebih singkat dan penggunaan tenaga yang lebih rendah. Hasilnya ialah kadar pengeluaran yang lebih baik, jumlah wafer yang rosak yang berkurangan, serta masa henti yang lebih sedikit.
Perkara yang perlu diperhatikan semasa pemasangan dan penyelenggaraan
Pastikan saiz saluran ekzos sesuai dengan perbezaan tekanan di dalam bilik bersih. Jika saluran ekzos tidak disusun dengan betul, ia akan menyebabkan turbulensi yang merosakkan keseragaman suhu. Unit ini juga memerlukan litar kuasa khusus agar dapat berfungsi dengan stabil semasa proses pemanasan yang cepat.
Lakukan penyesuaian setiap 5,000 jam operasi lampu, agar ketepatan suhu tetap terjaga. Jika semuanya disusun dengan betul, platform ini boleh beroperasi 24/7, memberikan prestasi termal yang konsisten dalam proses pengeringan wafer, pembakaran fotoresist, dan pembungkusan.