Di bahagian proses litografi, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan boleh menyebabkan perubahan pada profil fotorezistan sebanyak beberapa nanometer. Perubahan ini akan menyebabkan ralat dalam proses pembuatan cip. Oleh itu, kami mencipta pemanas khusus yang mampu menyesuaikan diri dengan keadaan ini, bukannya melawannya. Sebagai pengeluar pemanas dari China, kami menghasilkan modul pemanas yang mampu memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer dalam lingkungan ±0.1°C, agar dimensi pentingnya tetap terkawal.
Apa yang penting dalam reka bentuk pemanas ini
Kami menggunakan reka bentuk inframerah gelombang pendek dengan pemancar jenis kuarsa-halogen. Panas yang dihasilkan adalah cepat dan kering, dan berat pemancar yang rendah membolehkan suhu stabil dengan cepat. Sistem kawalan berpusat digunakan untuk memastikan segala sesuatu berjalan seperti yang diharapkan, dengan sensor yang disemak mengikut standard NIST. Ketepatan pengukuran adalah ±0.2°C untuk setiap kitaran.
Pembinaan pemanas ini menggunakan bahan berkualiti tinggi serta sambungan yang kukuh, agar dapat mengurangkan pelepasan gas dan pembentukan zarah-zarah tertentu. Dengan cara ini, pemanas ini sesuai digunakan dalam bilik bersih tahap 1–100. Kepadatan tenaga pemanas juga disesuaikan agar sesuai dengan keperluan wafer dan plat panas. Kami juga menawarkan pilihan voltan dan saiz yang sesuai dengan alat-alat yang biasa digunakan oleh pengilang.
Mengapa reka bentuk ini sesuai untuk digunakan dalam produksi
Proses pemprosesan fotorezistan—sama ada proses pemanasan lembut, pemanasan keras, atau selepas pemanasan—bergantung sepenuhnya pada kestabilan suhu. Pemanas kami mampu mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat, mengurangkan variasi suhu, dan memastikan keseragaman suhu pada seluruh wafer. Anda boleh melihat hasilnya: penyebaran dimensi penting yang lebih baik, jumlah barang yang perlu diperbaiki yang berkurangan, dan kadar pengeluaran yang lebih stabil.
Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana sistem ini hanya memanaskan bila diperlukan, dan suhu dapat disejukkan dengan cepat. Kebolehpercayaan sistem ini sangat tinggi, sehingga boleh beroperasi 24/7 tanpa gangguan.
Apa yang perlu diperhatikan semasa pemasangan
Yang paling penting ialah antaramuka termal: kerataan permukaan wafer, tekanan sentuhan, dan kadar emisi haba. Walaupun jurang udara yang kecil pun boleh menyebabkan ketidakseragaman suhu. Lakukan ujian awal untuk menentukan profil suhu sesuai dengan proses yang digunakan, kemudian pastikan kalibrasi dilakukan dengan betul. Pemanas ini akan berfungsi seperti yang diharapkan—tetapi hanya jika antaramuka mekanikal dianggap sebagai sebahagian daripada sistem termal, bukan sesuatu yang boleh diabaikan.