Di bilik pengeluaran, proses pemprosesan fotoresist memerlukan ketepatan yang sangat tinggi. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran boleh menyebabkan perubahan pada dimensi penting komponen tersebut. Selain itu, kehadiran zarah-zarah berbahaya juga boleh merosakkan keseluruhan produk yang dihasilkan. Kami telah merancang lampu pemanas jenis kuarsa ini agar dapat mengurangkan variasi suhu tersebut.
Apa yang penting dalam reka bentuknya
Lampu-lampu ini menggunakan unsur halogen berfrekuensi rendah yang terletak di dalam selubung kuarsa berkualiti tinggi. Ini membolehkan tindak balas yang cepat serta kawalan suhu yang tepat. Ketinggian suhu pada setiap wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C, dan prestasi lampu ini tetap konsisten dari satu sesi pengeluaran ke sesi yang lain. Reka bentuk ini juga membantu mengelakkan kehadiran zarah-zarah berbahaya, dan sesuai digunakan di bilik-bilik bersih bertaraf dari Kelas 1 hingga Kelas 100. Prestasi lampu ini kekal stabil selama lebih daripada 5,000 jam, dengan penurunan prestasi kurang dari 5%. Oleh itu, ia sesuai untuk digunakan 24/7.
Mengapa ia sesuai untuk proses litografi
Dalam proses litografi, lampu-lampu ini membantu mengawal suhu semasa proses pembakaran fotoresist. Ini seterusnya mengurangkan variasi lebar jalur pada permukaan wafer, serta mengurangkan keperluan untuk memproses semula wafer tersebut. Kawalan suhu yang baik membolehkan proses pembakaran dilakukan dengan lebih cepat tanpa menyebabkan kerosakan pada wafer. Ini seterusnya meningkatkan produktiviti dan mengurangkan penggunaan tenaga. Hasil pengeluaran juga menjadi lebih baik, dengan jumlah wafer yang perlu diproses semula berkurangan. Selain itu, reka bentuk lampu ini memudahkan proses peralihan antara pelbagai jenis wafer, kerana ia boleh digunakan secara langsung pada sistem yang sedia ada.
Butiran praktikal yang perlu diperhatikan
Semasa pemasangan, pastikan voltan, jenis sambungan, dan dimensi lampu sesuai dengan alat yang digunakan. Semak juga profil suhu yang dihasilkan oleh lampu tersebut agar ia sesuai dengan ciri-ciri fotoresist yang digunakan. Lampu-lampu ini tidak tahan terhadap goncangan mekanikal, jadi pastikan ia dipasang dengan kukuh. Permulaan operasi lampu secara tiba-tiba akan menyebabkan sedikit perubahan suhu; oleh itu, prosedur pembakaran perlu disesuaikan untuk mengatasi masalah ini. Penyelarasan yang betul juga penting untuk memastikan suhu kekal stabil pada tahap ±0.1°C untuk ribuan wafer.