Fotorezistentverhittingslamp
Op de afdeling voor lithografie leer je snel dat een verschil van maar een halve graad in de temperatuur al voldoende kan zijn om de controle over de...
Gereguleerde atmosfeer baklamp
Op de productievloer is een photoresist-bake nooit “gewoon een temperatuurstap.” Het is een thermisch budget waar je mee instemt.
Een afwijking van...
E stralenresist bakoven verwarmingselement
Op de lithografievloer is een E-beam resist bake niet zomaar een opwarming. Het is het thermische moment dat de kritieke dimensiebeheersing bepaalt....