포토레지스트 건조 램프
리소그래피 공정에서는, 단 0.5도만큼의 온도 변동이라도 치명적인 결과를 초래할 수 있다는 것을 빠르게 깨닫게 됩니다. 이러한 건조용 램프들은 단순한 가열 장치가 아니라, 공정을 안정적으로 유지하는 핵심 요소입니다. 우리는 반도체 제조 공정에서 발생할 수 있는 모든...
E빔 레지스트 베이킹 히터
리소그래피 공정 현장에서 E-beam 레지스트 베이킹은 단순한 예열이 아니다. 이는 크리티컬 디멘션 제어를 결정짓는 열적 이벤트다. 웨이퍼 전면에서 2°C의 온도 변동은 피처를 나노미터 단위로 이동시킬 수 있으며, 이 나노미터 단위 차이가 좋은 수율과 불량을 가른다....