리소그래피 공정에서는, 단 0.5도만큼의 온도 변동이라도 치명적인 결과를 초래할 수 있다는 것을 빠르게 깨닫게 됩니다. 이러한 건조용 램프들은 단순한 가열 장치가 아니라, 공정을 안정적으로 유지하는 핵심 요소입니다. 우리는 반도체 제조 공정에서 발생할 수 있는 모든 문제를 방지하기 위해 이러한 램프들을 설계했습니다. 반도체 웨이퍼는 매번 동일한 열 처리 과정을 거쳐야 하기 때문입니다.
기술적으로 중요한 점 우리는 석영-할로겐 방출기를 사용하여 짧은 파장의 적외선을 이용함으로써, 웨이퍼 표면 전체에서 ±0.1°C 이내의 온도 균일성을 확보합니다. 한 번의 공정 실행과 다음 공정 실행 사이의 온도 변동도 ±0.2°C 이내로 유지됩니다. 따라서 부드러운 건조 과정과 강력한 건조 과정 모두 일정하게 유지됩니다. 이 시스템은 클래스 1–100급의 청정실 환경에서 작동하며, 결함 발생을 최소화하기 위해 입자를 전혀 생성하지 않습니다. 에너지 소비량도 정확하게 측정 및 제어되며, 방출기는 5,000시간 이상 동안 안정적으로 작동합니다.
왜 공장에서 효과적인가? 건조 과정은 레지스트에 맞춰져야 하며, 그 반대가 아닙니다. 높은 온도 균일성은 가장자리 부분의 두께 변동을 줄여주어, CD의 균일성과 생산성을 향상시킵니다. 청정실에 적합한 구조와 밀폐된 광학 장치 덕분에 오염을 방지할 수 있으며, 24/7 연속運転에도 견딜 수 있도록 설계되어 있습니다. 그 결과, 재작업이 줄어들고, 공정도 보다 안정적으로 유지됩니다.
주의해야 할 점 설치할 때는 램프의 크기와 연결 인터페이스가 공정 장비에 잘 맞는지 확인해야 합니다. 또한, 공정 시작 전에 챔버 내부의 반사체가 깨끗한 상태인지, 그리고 배기 시스템이 설계된 대로 작동하는지 확인해야 합니다. 그렇지 않으면 온도 균일성이 떨어집니다. 공정 규모를 늘리기 전에, 레지스트와 기판의 구조와 일치하는지 반드시 확인해야 합니다.