リソグラフィーの現場では、わずか0.5度の温度変動だけで、重要な寸法制御が規格を外してしまうことがある。これらの加熱装置は単なるヒーターではなく、プロセスを安定させるための重要な要素なのだ。私たちは、半導体製造における厳しい要件に合わせてこの装置を開発した。つまり、各ウェーハが毎回同じ熱処理条件を...

リソグラフィフロアにおけるEビームレジストのベークは単なるウォームアップではない。これはクリティカルディメンション（CD）制御を決定づける熱処理イベントである。ウェハー上での2℃の温度変動がナノメートル単位のパターンシフトを引き起こし、そのナノメートルが良品とスクラップを分ける。私たちはこの現実を...