リソグラフィー工程において、ソフトベイク中の1℃の温度変動だけで、フォトレジストの形状がナノメートル単位で変化してしまいます。そして、その変動は直接的にオーバーレイエラーとして現れます。私たちは、このような現実に対処するためのヒーターを開発しました。中国で製造されるヒーターメーカーとして、ウェハ全体の温度を±0.1℃以内に保つことができるサーマルモジュールを提供しています。これにより、重要な寸法もしっかりと制御されます。
内部で何が重要か 私たちは、石英・ハロゲン式の発熱体を使用した短波赤外線方式を採用しています。この方式では、迅速かつ効率的に加熱が行われ、質量が軽いため温度もすぐに安定します。クローズドループ制御により、NIST基準に合致したセンサーを使って温度を正確に管理します。繰り返し精度は±0.2℃です。
高純度の材料や溶接された接合部を使用することで、ガスの発生や粒子の生成を抑え、クリーンルームクラス1～100の要求に適合します。パワー密度はウェハチャックやホットプレートに合わせて調整されており、一般的なOEMツールにも対応する電圧やサイズのオプションも用意されています。
なぜこれが生産に適しているのか フォトレジストの処理、つまりソフトベイク、ハードベイク、ポストベイクは、安定した温度管理にかかっています。私たちのヒーターは、設定温度に迅速に到達し、過剰な加熱を防ぎ、ウェハ全体の均一性を保ちます。その結果、重要な寸法のばらつきが減少し、再作業が少なくなり、生産効率が向上します。
また、システムは必要な時だけ加熱され、迅速に冷却されるため、エネルギー消費も削減されます。24時間365日の運用でも信頼性が保たれ、計画外の停止も少なくなります。
正しく設置するために必要なこと 設置時には、熱伝達の観点から、チャックの平坦性、接触圧力、放射率などが重要です。わずかな空気層があっても、局所的な不均一性が生じます。
まずは短時間の試験運転を行い、温度分布をプロセス仕様に合わせて調整し、その後はカリブレーションを固定します。そうすれば、機械的な接続部分も熱システムの一部として扱えば、装置は規定通りに動作します。